2027中国(深圳)国际靶材产品及应用展览会

• 参展日期：2027/4/9~结束日期：2027/4/11
• 报名截止：2027/4/1
• 参展地(展馆)：深圳会展中心
• 批准单位：
• 主办单位：2027中国(深圳)国际靶材产品及应用展览会-组委会
• 承办单位：2027中国(深圳)国际靶材产品及应用展览会-组委会
• 支持协办单位：

展览资讯：
展览日期：2027年4月9-11日
展览周期：每年一届
展出规模：50000平米、80000人次
展览地点：深圳会展中心（福田）

大会介绍：
随着半导体、电子信息、集成电路、计算机、新型显示等电子器件市场的快速发展，高强、高导、高纯金属材料与靶材产品的需求量将会不断增长，性能和质量要求越来越高。为推动靶材产品的应用与发展，促进行业、企业间与市场的合作交流，展会为我国靶材行业新技术、新材料、新产品及在各个领域的最新应用技术成果提供了一个集中的展示平台,同时也为靶材企业展示企业形象、推广产品品牌、收集市场信息、加强行业交流起到了举足轻重的作用，靶材也是半导体、显示面板、异质结光伏领域等的关键核心材料。经过十余年的产业沉淀与技术迭代，2026年中国靶材行业已经形成覆盖金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、复合靶材等全品类的完整产业体系，从上游高纯金属提纯、中游精密成型与微观结构调控、下游终端客户长周期认证的全链条能力持续完善，整体产业成熟度大幅提升，在全球靶材产业中的话语权与市场地位稳步增强。
作为半导体、新型显示、高效光伏、精密镀膜等高端制造环节不可或缺的核心基础材料，靶材的技术成熟度、自主供给能力与全产业链配套水平，直接决定了下游电子信息产业的供应链安全边界与产品迭代上限。2026年，在全球高端制造产能持续向中国集聚、电子材料自主可控战略进入深水区的大背景下，中国靶材行业彻底告别了过去长期依赖外部技术供给、聚焦中低端产能粗放扩张的发展路径，全面进入结构性升级、高端赛道持续突围、全链条价值体系重构的全新阶段。
2026年的中国靶材行业，正处于从传统基础材料产业向高端战略核心材料产业跃迁的关键转折点，供给端的结构性优化、产业链协同生态的持续完善、市场规模的稳步扩容与细分结构的高端化调整，共同推动整个产业进入高景气的全新发展阶段。面向未来，靶材行业的高端化技术突破、全产业链垂直整合与全球竞争力提升，不仅将为下游半导体、新型显示、新能源等多个高端制造产业的供应链安全提供坚实支撑，也将推动中国在全球电子基础材料产业中占据更加核心的战略地位，成为支撑“十五五”期间国内新材料产业高质量发展的重要增长极。
站在2027年的时间节点展望未来，国内靶材行业将在下游高端制造需求持续拉动、自主可控战略深度推进的双重驱动下，进入高质量发展的全新周期，整个产业将实现从产业规模大国向全球高端靶材技术与供给强国的历史性跨越。在此背景下2027中国(深圳)国际靶材产品及应用展览会在各单位的支持下将于2027年4月9-11日在深圳会展中心（福田）隆重举办, 展会将进一步拓展靶材行业上下游产业链，集中展示国内外靶材行业领域的新技术、新设备、新产品，汇聚全球科技产业巨擘与创新能量，剖析趋势脉动、深入探讨未来技术，创新应用与市场发展契机。

上届回顾：
上届来自斯坦福先进材料公司、安斯超科学公司、科特莱思科、TOSOH东曹、JX日矿金属、Honeywell霍尼韦尔、ULVAC爱发科、Praxair普莱克斯、贺利氏Heraeus、东方钽业、有研亿金、攀时、三菱、阿石创、江丰电子、云锡集团、欧莱新材、长信科技、中钨高新、云南锗业、万顺新材、住友化学、优美科、成都超纯、晶联光电、丰联科光电、湖南有色、安泰科技、新疆众和、苏晶电子、芜湖映日、火炬安泰、利达光电、冶科科技、科迪普新材料、宁波森祥、金堆城、兰州真空、优仪半导体、赛利涂层、淄博真空、威利德、中科科仪、北仪创新、陕西欧凯利、宝鸡钛业等公司参加，参观人数近80000名，同期高峰论坛50场＋，100＋一流媒体单位对展会进行了报道，展会的成功举办得到了相关主管部门的高度认可，同期将召开一系列前瞻性、实用性、导向性的技术交流和新品发布等多场技术研讨会及论坛活动，邀请国内外专家领导与业内参会代表前来互动交流，探讨行业发展趋势，分享各自取得的经验成果。

靶材产品：
溅射靶材：高纯钴靶、超高纯金属溅射靶、超高纯合金靶材、铜和铜合金靶材、钛和钛合金靶材、金属溅射镀膜靶材、合金溅射镀膜靶材、陶瓷溅射镀膜靶材、陶瓷溅射靶材、磷化铟靶材、砷化铅靶材、砷化铟靶材、复合溅射靶材、微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材、方靶，圆靶，异型靶等其他靶材。
金属靶材：镍靶、钛靶、锌靶、铬靶、镁靶、铌靶、锡靶、铝靶、铟靶、铁靶、锆铝靶、钛铝靶、锆靶、铝硅靶、硅靶、铜靶、钽靶、锗靶、银靶、钴靶、金靶、钆靶、镧靶、钇靶、铈靶、钨靶、不锈钢靶、镍铬靶、铪靶钼靶、铁镍靶、钨靶等金属溅射靶材。
陶瓷靶材：ITO靶、AZO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶、五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材、巨磁电阻陶瓷靶材、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。
合金靶材：铁镍铬合金靶、镍钒合金靶、铝硅合金靶、镍铜合金靶、钛铝合金、镍钒合金靶、硼铁合金靶、硅铁合金靶等高纯度合金溅射靶材。
镀膜材料：增透膜、半反膜、晶体镀膜、红外镀膜、紫外镀膜、光纤镀膜、镀铝膜、彩膜、装膜、复合膜、镭
射膜、电容器膜、反射膜、滤光膜、分光膜、分束镜、滤光片、带通膜、截止膜、高反膜、金属膜料、氧化物、
氟化物、硫化物、钛酸物、混合物等各种膜材、镀膜蒸发料；PVD 涂层、TiN 涂层、TiC 涂层、TiCN 涂层、ZrN
涂层、CrN 涂层、MoS2 涂层、TiAlN 涂层、TiAlCN 涂层、TiN-AlN 涂层、CNx 涂层、DLC 涂层、ta-C 涂
层等多元复合涂层。
低温超导薄膜：低熔点超导薄膜：低熔点超导薄膜，合金薄膜；高熔点超导薄膜：难熔金属，合金薄膜；化合物超导薄膜： NbN和Nb3Sn、Nb3Ge薄膜；高温超导薄膜；钇系薄膜、铋系薄膜和铊系薄膜；
功能薄膜：光学薄膜，背光/显示用膜，显示屏用膜，产业用薄膜，光伏薄膜。
超导器件：超导隧道器件，超导量子干涉器件。
靶材生产加工设备：试验测试设备、分析检测仪器、测量仪、冷等静压机，热等静压机，高温钎焊炉，烧结炉，真空炉，中频感应炉，电子束区熔炉，电子束熔炼炉，大面积靶材钎焊炉，高温真空热压炉，轧机等。
其它材料制备：提纯、熔炼、热处理、工业炉、制造工艺、生产技术、分析与检测等。